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테스
> 2023년 6월 R&D 시설 투자
> 경기 용인 제일일반산업단지 R&D 특화 시설
> 2002년 설립된 반도체 전공정 장비 업체
> 메모리반도체 D램 및 낸드 생산 장비 제조
> 낸드 비중 60%.
> 플라즈마화학기상증착(PECVD) 장비 제조
>> 비정질탄소층(ACL) 증착용 PECVD (낸드 공정)
> 건식 세정 공정용 장비 제조
>> 가스페이즈에칭(GPE) 장비
>> 2021년 삼성전자 파운드리 공급 품질인증 통과
* 전공정
반도체원판(웨이퍼) 위에 전기 신호가 오가는 회로를 형성하는 공정
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