반도체가스 - 화학적성질

	시란 / 실란	지크로로시란	3크로로시란	4염화규소	4불화규소	지시란
분자식	SiH4	SiH2Cl2	SiHCl	SiCl4	SiF4	Si2H6
물과의 반응성	가수분해 하여 4배의 수소가 생김. 특히 아루카리성 수용액으로 분해	가수분해 하여 염산과 포리시로키산의 혼합물이 발생	물과 세차게 반응하여 염산을 생성	가수분해 하여 규산과 염산이 생성	물과 반응하여, H2SiF6,SiO2·H2O,HF,SiO2 생성	순수와 산과는 반응 X. 알커리와 반응하여 수소와 규산이 생성
연소성	공기 중에서 자연발화	100℃이상 때 공기 중에서 자연발화 (E. R.4.1∼98.8% )	공기 중에서 발연	-	불연성	공기 중에서 급속하게 연소
타물질과의 반응성	Cl2 등의 할로겐 가스와 격렬반응	아세톤과 반응한다	-	알코올로 분해	600℃에서 SiCl4 와 반응하여 SiClF3,SiCl2F2, SiCl3F 발생	F2, Br2, NCl3,SF6 와 격렬반응
재료 사용상의 주의	부식성은 없음	미량수분의 존재로 강산이 된다. 드라이 상태에서 불활성 침해 당한다	물의 존재로 강산이 된다	물의 존재로 강산이 된다	산화 및 환원에 대해서 안정	탄소강,SUS,동,모넬,유리, 테프론, 나이론, 바이톤, Kel-F 등의 사용이 가능

 

	포스핀	3염화린	3불화린	5불화린	오키시염화린	알신
분자식	PH3	PCl3	PF3	PF5	POCl3	AsH3
물과의 반응성	수화물 생성	물에 분해되어 염산 생성	물에 의해 서서히 분해	물이 소량 있어도 분해되어, HF와 POF3 발생	물과 반응하여 린산과 염산 발생	가압하에서 수화물을 발생. 용존산소에 의하여 As로 분해
연소성	공기 중에서 자연발화	불연성. 산소와 서서히 화합하여 오키시염화린이 된다	공기 중에서 발연 X	공기 중에서 자연발연	젖은 공기 중에서 세게 발연 함	공기 중에서 청백색 불꽃을 내여 타며 As2O3를 발생
타 물질과의 반응성	Cl2 등의 할로겐 가스와 거세게 반응	HBr,HI와 반응 PCl3+3HX →PX3+3HCl	수소와 가열하에 반응하여 PH3을 발생	3메틸아민과 강하게 반응. NH3,N2O4,NOF 등과도 반응	수산기를 가진 유기화합물과 반응	Cl2와 반응하여 HCl와 As가 된다. (E.R. 0.8 ~ 98%)
재료 사용상의 주의	NH3보다 강한 환원성. 탄소강,SUS,모낼, 하스테로이 등 사용 가능	니켈강,철,저합금강,니켈크롬강,태프론,Kel-F 등 사용가능	철 또는 유리용기에 보존	모낼,Inconel, 니켈,Kel-F, 테프론 등 사용 가능	스테인리스도 침해 당함. 보통 유리 사용	강환원성. 탄소강,SUS,모낼, 놋쇠,테프론, 바이톤,나이론 Kel-F의 사용 가능