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* 원자층 증착법
: 분자의 자기 제한 표면 반응(self-limiting) 기반의 박막을 원자 단위로 증착하는 방법
+ 매우 얇은 원자 단위 두께 층을 실리콘 웨이퍼등의 평평한 물질에 소자 손상 없이 균일하게 증착 가능
> 적용범위
: 반도체, 디스플레이 분야뿐만 아니라 나노 신소재, 바이오와 에너지 등
Al(CH3)xCl3-x시리즈 중 [Al(CH3)3] & [AlCl3]
: 분자 사이즈 서로 유사 , 반응성 서로 다름.
+ Al(CH3)3 분자 : 분자 반응성 큼 / 여러 단계 거쳐 표면과 반응
+ AlCl3 분자 : 분자 반응성 낮음 / 1종 리간드만 표면과 반응, 표면 덮힘률 낮고, 박막 성장률 낮음
Al(CyH2y+1)3 시리즈 [Al(C2H5)3]
: 반응성 유사, 분자 사이즈 다름
+ Al(C2H5)3 :반응성 큰. 2종 리간드 표면반응에 참여, C2H5 리간드의 경우 크기가 커 성장속도 느림
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