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중국 반도체 장비업체- 리소그래피(Lithography·노광) 장비 개발
0. 현재 전 세계 노광기 90% ASML이 공급
1. 화웨이- 반도체 장비 R&D 센터를 건설 중
1.1. 위치: 중국 상하이 서부 칭푸지구: 상하이시 첨단 기술 캠퍼스
1.2. 차세대 반도체 생산에 필요한 노광장비 개발
1.3. 식각과 노광 결합공정 기술 특허 출원
1.4. ‘자가 정렬 4중 패턴화’(SAQP)
: 트랜지스터 밀도와 반도체 성능 향승을 위한 라인을 여러 개 그리는 기술, DUV 장비로 5㎚ 칩 제조가능 (나우라테크놀로지)
2. 상하이마이크로일렉트로닉스
2.1. 2024년 기준, 중국 내 유일한 노광장비 개발업체
2.2. 90㎚ 수준의 기술력
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