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반도체 용어 설명 GHI

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- GaAs(Gallium Arsenide)

화합물 반도체로서 초고속 장치에 사용되며, 고주파에서의 이득과 대역폭 특성이 양호하여 차세대에 Silicon 대신 많이 이용되는 물질. -Ⅴ족 화합물 반도체의 대표적인 재료로 Si에 비해서 결정내의 전자이동이 56배 빨라 초고속·초고주파 device에 적합함. UHF SHF GaAs FET, micro analog IC, 적외선 발광 Diode, 반도체 laser, Hall 소자, 태양전지 등에 이용되고 있음.

 

- GaAs IC

GaAs을 이용한 초고속 IC. SPAR Computer나 통신분야에 기대되는 IC로써 현재 Memory Gate Array를 중심으로 고집적화 개발이 진행되고 있음. 또한, GaAs IC의 연구도 활발하게 진행되고 있음.

 

- Gas Cabinet

Gas 공급기. 반도체 공정에 필요한 각 Gas를 장비로 공급하는 장치.

 

- Gas Scrubber

공기나 Gas중의 불순물 또는 분진을 물의 분사나 수막에 의하여 씻어 내리는 장치.

 

- Gate

1) 논리회로에서 몇 개의 Transistor를 조립하여 만든 계수형 회로를 말하며, 2진 정보가 입력의 조합에 의해 형성되는 논리 회로.

2) 반도체 장치에서 MOS Transistor에 입력을 가하기 위함 단자로서 Bipolar Transistor Base에 해당하는 단자.

 

- Gate Array

논리소자인 NOT-Gate, AND-Gate, OR-Gate, NAND-Gate 등의 구성이 되어 있거나. 구성할 수 있도록 Transistor가 필요한 양만큼 만들어져 있는 Logic 소자로서 주문형 소자로 많이 사용됨. 개발기간과 비용을 절감하여 다품종 소량의 수요에도 대응할 수 있는 Semi-Custom Digital IC. 기본 Cell을 가지고 배선 전 단계까지 처리된 Master Wafer User의 논리회로도와 timing chart를 접수받은 data CAD기술에 의해 배선을 연결시켜 단기간 내에 공급할 수 있음. 종래는 배선영역과 Gate영역이 분리 고정된 type이었으나, 최근에는 chip전면에 Gate를 배치시키기 때문에 자유로이 배선영역과 Gate영역을 설정할 수 있는 SOG(Sea of Gate) G/A가 주류로 될 것임.

 

- Germanium

게르마늄. 잘 알려진 반도체 재료 중의 한가지.

 

- Gold Wire

와이어 본딩 공정에서 사용하는 가느다란 금으로 된 금속선으로 순도 99.9% 이상임.

 

- Good Device : 양품. 결함을 포함하고 있지 않은 제품( Bad Device)

 

 

- Handler

Package화된 다량의 소자를 동시에 Test하기 위해 소자와 Test System과 연결시켜 주는 장비.

 

- HCT(High Speed C-MOS TTL)

고속의 C-MOS TTL이며 기존의 LSTTL 제품이 지니는 단점(고소비전력)을 보완한 것으로서, Computer Computer 기술을 필요로 하는 각 전자부품내의 CPU, Memory, 주변기기 주요 IC들과 함께 내장되어 각 기능을 상호 연결시켜 주는 역할을 수행하는 제품.

 

- HDD(Hard Disk Drive).

 

- H/D(Handler)

조립(Package)된 제품을 검사하기 위해 Tester와 연결되는 설비.

 

- HEMT(High Electron Mobility Transistor)

고전자 이동도 Transistor라 부르며, GaAs을 응용한 초고속 저소비전력의 FET 반절연성 GaAs기판 상에 undoped GaAs, 그 위에 N AlGaAs층을 성장시킨 구조로써, AlGaAs층에서 공급된 전자는 Undoped GaAs층과의 접합부의 얇은 영역으로 이동하여 전류 channel을 형성시켜 고전자 이동도를 실현하고 있음. HEMT는 위성방송수신 System용으로 수요가 확대되고 있음.

 

- High Power Inspection

Wafer 가공상 생긴 die표면과 각 회로상의 불량을 고배율 현미경을 사용하여 검사하는 작업.

 

- Hybrid-Circuit

한 기판 위에 여러 종류의 능동소자, 수동소자 또는 직접회로 등을 부착시킨 전자회로를 말하며, 혼성집적회로라고도 함.

 

- Hybrid I.C.

반도체 기술과 박막(Thin Film) 또는 후막(Thick Film) 기술의 양쪽을 혼성하여 만들어지는 IC를 말하며 반도체 기술에 의해 다이오드나 트랜지스터 등을 만든 기판 위에 다시 절연층을 만든 후 박막기술 및 후막기술에 의해 배선이나 저항, 콘덴서 부분 등을 만들어 내는 혼성형 IC를 말함. 반도체 IC로써는 곤란한 고정밀도, 고주파수, 고내압, 대전력을 요구하는 분야에 이용됨.

 

- IC(Integrated Circuit)

집적회로라 부르며, 2가지 이상의 회로소자를 기판 내에 집적하여 상호 배선을 연결시킨 회로로써 설계부터 제조, 시험, 운용에 이르기까지 하나의 단위로써 취급되는 것으로 정의함.

 

- IC Memory

종래의 자성체 대신에 바이폴라 TR이나 MOS TR F-F를 구성하여 기본 Memory(Cell)를 만든 IC 회로.

 

- IC Tester(Integrated Circuit Tester)

집적회로 검사장치. 출하직전 IC의 전압이나 저항 등의 전기적 특성을 검사하고 불량품을 제거하는 장치. 불량품과 양품(良品)을 자동적으로 구별하는 ATE(Automatic Test Equipment=전자동검사장치)가 주류를 이루고 있음.

 

- IDM(Integrated Device Manufacturing)

일반적으로 자사 Brand로 제품을 판매하는 종합 반도체 업체

 

- IGBT(Insulated Gate Bipolar Trasistor)

MOSFET Power Tr를 복합화한 스위칭 Device : 고주파화, 저경음화.

 

- IGFET(Insulated-Gate-Field-Effect-Transistor) 

MOSFET의 다른 명칭.

 

- Implanter

이온 주입기. 불순물을 강제로 Wafer에 주입시키는 장치로써 고전류, 중전류, 저전류 이온 주입기 등 3 종류가 있다.

 

- Implanting

이온주입. Wafer 내부로 B(붕소) P() 등을 Implanter를 이용해 주입시키는 것을 말함.

 

- Ingot

일반적으로 용융된 상태에서 응고된 고체덩어리. 실리콘(Silicon)의 경우, 실리콘 용융액으로부터 성장시킨 단결정을 실리콘 잉고트라고 부름.

 

- Injection

주입. PN 접합면에 있어서 각 영역의 다수 캐리어가 반대쪽 영역으로 소수 캐리어로 되어 흘러 들어가는 현상.

 

- Inspection(Normal)

보통검사. 공정이 합격품질 수준 또는 그보다 다소 나은 상태에서 진행되었을 때, sampling법에 의해 적용되는 검사를 말함.

 

- Inspection(100 Percent)

전수검사. Lot 혹은 Batch내의 모든 단위체를 검사함.

 

- Inspection(Rectifying)

선별형 검사. 불합격 판정된 Lot이나 Batch에서 특정수 또는 모든 단위체에 대한 검사를 실시하는 동안 불량품의 교체 및 제거하는 검사를 말함.

 

- Inspection(Tightened)

까다로운 검사. 정규(보통)검사에서 적용했던 기준보다 더 엄격한 합격판정 기준을 사용하는 sampling 검사방법을 말함. 까다로운 검사(Tightened Inspection)는 제시된 품질수준이 상당히 나쁠 때, 불합격 Lot의 확률을 증가시키기 위한 보호수단으로 사용됨.

 

- I/O(Input Output)

정보를 전달하거나 수신하는 곳 또는 입출력 장치를 말함.

 

- Ion Beam Lithography

기존의 Optic, X-ray, electron beam을 이용하는 방법보다 더 발전된 형태의 Lithography 방식으로서 보다 정밀한 해상도를 얻을 수 있음.

 

- Ion Implanter

회로패턴과 연결된 부분에 불순물 원자 Ion을 미세한 gas입자 형태로 가속해 wafer의 내부에 침투시켜 전자소자의 특성을 만들어주는 장비로 beam 전류의 강도에 따라 여러 종류로 나뉨.

 

- Ionizer

이온, 이온을 순차적으로 발생시켜 대기중에 발생된 정전기를 제거하는 장치(대전물에 존재하 극의 이온을 중화시킴).

 

- Ion Implantation

반도체 소자가 원하는 전기적 특성을 가지도록 반도체 기판 위에 필요한 부분에만 고전압으로 가속된 이온을 물리적으로 주입하는 것.

 

- Ion Injection

Silicon 등에 확산법에 의해 불순물을 넣어 주는 것이 아니라 Ion을 쏘아서 원하는 깊이, 원하는 갯수만큼의 불순물을 주입하는 것.

 

- ISDN(Integrated Service Digital Network)

전기통신망의 장래 형태로서 전기, Facsimile, 화상, Data, 전보, Telex등 복수 서비스를 제공할 수 있는 종합적인 Digital 교통망을 ISDN(=Digital 종합 통신망)이라고 부름.

 

- Isolation

반도체 집적회로는 한 Chip속에 TR, Diode, 저항 등의 회로소자를 조립해 넣으므로 이들 소자를 먼저 각각 분리하여 고립된 상태를 만들어 놓는데 이를 Isolation이라 함.

 

- Isolation in IC

반도체 집적회로에서 소자끼리 전기적으로 영향을 받지 않도록 하는 것.

 

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