반도체 포토레지스트 (PR)

반도체 포토레지스트 (PR)

일본이 장악한 포토레지스트(PR). PR 시장은 도쿄오카공업(TOK) 스미토모화학 JSR 등의 합산 점유율 90%

PR ??
반도체 노광 공정 필수 물질.
실리콘웨이퍼에 PR을 바르고 회로가 새겨진 포토마스크를 올려 빛을 쬐면 패턴이 형성됨.
크게 전공정용과 후공정용으로 구분.

전공정용 PR은
불화크립톤 (KrF·248nm) / 불화아르곤 (ArF·193nm) / 극자외선 (EUV·13.5nm)용으로 분류.
ArF의 경우 공기를 활용한 드라이와 액체를 사용하는 이머전 방식으로 2차 분류.



LG화학
후공정용 PR 개발 중
추가 패턴화 작업용.전공정용보다는 덜 예민한 제품



SK머티리얼즈퍼포먼스
ArF PR 개발 완료.
고객사에 공급 중


삼성SDI
PR 개발에 착수


동진쎄미켐
ArF PR 공급 중
극자외선(EUV)용 PR 개발 완료


영창케미칼
ArF 드라이 PR 및 이머전 제품 준비 중