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-세정장비는 반도체 기판 깨끗하게 세정하는 장비.
-최근 반도체 산업은 나노미터(nm) 단위 공정 진행
-아주 작은 입자 수준의 먼지나 오염물에 의한 치명적인 불량 최소화 하기 위한 장비.
-과거 초순수 (극도로 정제한 물) 이용 세정작업 진행
-이 과정 중 물에 의한 반도체 회로 손상되는 단점.
-'초임계 이산화탄소'를 이용한 세정장비가 대안.
-'초임계'는 액체도 기체도 아닌 상태를 의미
-초임계 상태 이산화탄소를 사용. 반도체 기판의 불순물을 제거.
-10nm대 DRAM(램), 위탁생산(파운드리) 반도체 공정에 투입
-세메스, 도쿄일렉트론, 램리서치 개발중.
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